半導(dǎo)體是作為一種電子性質(zhì)介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料,，具有重要的電子學(xué)和光電學(xué)性質(zhì),，廣泛用于電子、光電和信息技術(shù)領(lǐng)域,。其在制造過(guò)程中需要清洗的超純水,，幾乎每道工序都需要超純水作為清洗用水,，為了更好地為半導(dǎo)體生產(chǎn)清洗用水供給，超純水設(shè)備也在增加生產(chǎn)力度,。

　　目前,，半導(dǎo)體生產(chǎn)中應(yīng)用的超純水設(shè)備摒棄了傳統(tǒng)工藝，核心是采用的膜法技術(shù),，應(yīng)用反滲透工藝與EDI和混床工藝來(lái)生產(chǎn)超純水,，不僅產(chǎn)水量增加，出水電導(dǎo)率可達(dá)18.2mΩ,， 滿足了芯片行業(yè)用水需求,。

　　該超純水設(shè)備采用的核心工藝組成介紹如下：

　　1、反滲透工藝：利用反向滲透原理,，有效除去水中溶解鹽類,、有機(jī)物、膠體,、大分子物質(zhì)等,，降低水質(zhì)的離子含量。

　　2,、EDI模塊：無(wú)需酸堿再生,，運(yùn)行成本低，EDI系統(tǒng)的自動(dòng)化程度很高,，可以連續(xù)工作,，出水水質(zhì)好且穩(wěn)定，出水電阻率≥15MΩ·CM,。

　　3,、拋光混床工藝：專門用于高純度的水處理系統(tǒng)中的終端精制器，能夠?qū)⑺械碾x子含量降到PPB級(jí)別,，出水電阻率可達(dá)18.2MΩ·CM,。

　　以上，介紹的工藝就是目前半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用的超純水設(shè)備核心工藝組成,。萊特萊德北京超純水設(shè)備在保證出水達(dá)標(biāo)的同時(shí),，還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性,、擴(kuò)建前瞻預(yù)判等細(xì)節(jié),，為半導(dǎo)體生產(chǎn)提供了高品質(zhì)的超純水。

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